?离子镀膜中的离子源介绍

　　　　虽然离子源的类型有很多种，但目的无非是在线清洗，改善PVD真空镀膜表面的能量分布，调制增加反应气体的能量。离子源可以大大提高膜与基体的结合强度，同时也可以提高膜本身的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。如果是电镀工具的耐磨层，厚度一般较大，膜厚均匀性不高?？梢允褂美胱拥缌鹘洗?、能级较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
　　阳极离子源类似于霍尔离子源。在环形(矩形或圆形)窄间隙内施加强磁场，工作气体电离后在阳极的作用下向工件发射。阳极离子源可以做得很长，特别适合镀大型工件，如建筑玻璃。阳极离子源的离子电流也较大。但是离子电流发散，能级分布太宽。一般适用于大型工件、玻璃、磨损和装饰工件。然而，在先进的光学涂层中应用并不多。
　　考夫曼离子源是较早使用的离子源。属于网格离子源。首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏，离子通量有限，可能会让需要大离子通量的用户不舒服。
　　霍尔离子源是一种阳极，在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子电流。